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第八十四章 见证历史,14纳米轻舟处理器问世! (第3/5页)

“噢?你要扩大生产?”

拉比兹看向高永明询问道。

高永明点了点头,想着怎么拖延时间道:“想试试接20纳米的订单,哦对了,14纳米的EUV光刻机你看能……”

话音未落,拉比兹打断道:“抱歉高总,EUV光刻机可不是我能够说了算的,你们自己也很清楚,到底是谁在限制你们。”

“说得也对,我们还是继续谈20纳米制程的DUV光刻机吧。”曲程打了个圆场道。

两人的任务很简单,就是拖延足够多的时间。

等另一位荷兰工程师来交班,估计就差不多了,现在就拼命拖延就完事了。

……

芯片生产车间。

20纳米制程光刻机内部。

第一块光掩膜版已经安装,光刻机镜头正射出193纳米波长的深紫外光光源,每次曝光,都会在底部的晶圆片上刻出设计好的芯片电路图案。

随着移动平台的不断移动,以及光刻机镜头的不断曝光,晶圆片被刻上了密密麻麻的芯片电路图,如果是生产20纳米芯片,现在就已经完成光刻,可以直接送交切割封装检测了。

但用DUV光刻机生产14纳米芯片,一次曝光根本不能满足需求,需要二次曝光。

“取出第一块光掩膜版,安装第二块光掩膜版。”林天目光看向冯承铭说道。

冯承铭立马照做。

当第二块光掩膜版放入光刻机镜头处,林天开始亲自校准,并讲解道:“听好了,多重曝光技术难的点在于晶圆对齐,如果两次的点位出现偏差,第二次曝光将会损坏第一次曝光留下的电路图案,因此要多加小心。”

在确认没问题以后,他看向冯承铭道:“二次涂抹光刻胶,进行二次曝光步骤。”

“明白了。”

冯承铭闻言照做。

“光刻胶要均匀分布,这点应该难不倒你们。”林天淡淡道。

在二次步骤准备好后,光刻机再次启动,开始在底部晶圆上进行二次曝光。

看似步骤简单,但其实任何微小的误差,都有可能导致整张晶圆报废。

一张晶圆报废,那就是十几万的损失。

因为一张12英寸的晶圆,也就是常说的硅片,它就能大概切出500枚芯片。

按照骁龙810处理器的市场价300元来算,损坏一张晶圆,就相当于损失了15万。

当然了。

14纳米的轻舟处理器会更贵!

随着光刻机启动,193纳米波长的深紫外光不断地曝光,底部的移动平台也不断移动,弥补第一次曝光电路图案的不足。

数分钟过去。

晶圆二次曝光结束。

等待片刻以后,林天戴上手套亲自取出晶圆,眯起眼睛仔细观察电路图案,大致看不出图案有重叠,但还需要进行测验。

“加急送去切割测验。”

冯承铭目光看向身旁的工程师,使了个眼色道:“小龙,你拿去切割测验。”

“我?”

那名工程师愣了愣。

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