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第二百零三章 喜报频传,芯片材料遥遥领先 (第5/5页)

“还没有。”

杨烈刚说完,又补充道:“刚刚做好就给你微信了,我们只提供了15N的12寸半导体硅片。”

闻言,陈星点了点头,随即叮嘱道:“16寸硅片的事情不能泄露出去,目前还是以12寸硅片生产为主,现在还不是摊牌的时候,知道的人越多,越容易走漏风声。”

“我明白了。”

杨烈点了点头。

在叮嘱完杨烈韩铭,以及龙兴硅业的其他人才后,陈星便来到了隔壁不远处的龙兴化工厂。

化工厂不同于硅业工厂,这里弥漫着刺鼻的味道。

破解光刻胶,以及配套试剂应有的成分,这对于科研工程师来说只能不断尝试。

早早在门口等待的朱明月见陈星到来,立马递上过滤口罩道:“总裁快请进。”

陈星接过口罩戴上,便跟随他走进化工厂。

化工厂真不比硅业工厂,刺鼻的味道闻久了都感觉会折寿,全是化学试剂的刺鼻味。

在穿过调配区,朱明月带陈星来到了他的办公室,关上房门并打开过滤抽风机。

不一会。

两人都摘下了口罩。

朱明月从办公室保险箱,拿出数瓶约摸550毫升罐装可乐大小的密封罐子道:

“1号ArF光刻胶,曝光波长:193nmIMM,技术节点及应用:N40nm-7nmPTDL/S,工艺能力CD:0.063um,工艺能力THK:0.16-0.24um。”

“翻译一下。”

虽然陈星是重生者,又带有国产之光系统,但这并不代表他是万能的,光刻胶他可没学过。

朱明月闻言,淡淡一笑解释道:“曝光波长193纳米,说明它支持193深紫外光,也就是DUV光刻机的曝光,技术节点及应用N40纳米-7纳米PTDL/S,可用于40纳米到7纳米芯片的生产。”

“工艺能力CD:0.063um是分辨率,而工艺能力THK:0.16-0.24um则是涂抹厚度。”

陈星理解能力很强,在听了讲解以后,立马抓住重点道:“也就是说,这是一款足以支持7纳米芯片生产使用的光刻胶?”

“是的。”

朱明月点了点头,继续抛出这款光刻胶的底细道:“因为考虑到我们没有EUV光源,所以这款光刻胶曝光波长设计在193。”

“如果要用一句话概括,那就是这款光刻胶是我专门为多重曝光技术而设计的产品。”

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